陆飞挑了挑眉，倍感意外，这么凑巧！
EUV光刻机的出现，相当于光刻机技术和设备正式发展到第五代，遥遥领先于他们。
第一代光刻机是以436nm的g-line汞灯光源为主，只适用于5μm以上制程。
之后出现了365nm的i-line汞灯光源的第二代光刻机，制程精度来到了350到500nm。
这两代都只能算是接近式光刻机，到了第三代扫描投影式光刻机，才实现了跨越式的突破，把最小工艺推进至150到250nm。
他们生产的65nmArF干式光刻机，算是第四代，也就是步进式投影式光刻机，制程工艺最高可以推进到65nm，想要更上一层——
就得用到浸入技术，也就是让镜头和硅片之间的空间浸泡于液体之中，在此基础上，就有了四代半的浸入步进式投影式光刻机。
本来，逻辑跟ASML这些国际一线的光刻机厂商，就只剩ArFi这么个半代差距。
但EUV光刻机一出现，又把这个差距拉到了至少1.5代，而且这个技术差距，不像制程工艺那么好追，是整个产业链的全面落后。
“不是我急，陆总，一旦EUV预生产成功的话，英特尔、三星、台积电也许不出三五年，就能得到EUV光刻机的生产线……”
尹志尧话里无不透着焦虑。
“尹教授，这台EUV，ASML、三星、英特尔、蔡司、台积电它们花了多久才研制出来？”陆飞透过面罩的玻璃，直直看去。
“从林本坚提出浸润式微影技术的理论，到现在，大概十三、十四年。”
梁孟松站出来回答。
“对嘛，这不就结了。”
陆飞拍了拍尹志尧的肩膀，“EUV集欧美日韩这么多全球最顶尖的半导体公司和人才，也要花13年的时间，何况是我们呢！”
“陆总说的没毛病！”
孙红军机敏地当捧哏。
“咱们研究起步晚，技术经验积累少，人才还不够不精，再加上特么的技术封锁，能在这么短的时间，攻克65nmArF干式光刻机，就已经很不正常了，再快就该拍科幻片了。”
陆飞笑道：“落后不可怕，可怕的是不追赶，你看我们现在，已经步入正轨了。”
“可不是嘛，快赶上小霓虹了！”
孙红军嘿然一笑。
就像霓虹在新能源上梭哈错了氢能，
…。。