加一倍。但摩尔定律并不是客观的自然规律，而是芯片行业在激烈竞争中形成的经验规律：一旦芯片公司的研发速度落后于这个节奏，就将被无情淘汰。摩尔定律自从1965年提出后，统治了芯片行业长达半个世纪。
半个世纪以来，芯片上的晶体管数量一直在呈指数级增长。如果还把芯片比喻为“照片”的话，那么，这个照片的像素是呈指数级增长的。相应地，用来曝光洗印“照片”的光刻机的精度，也必须越来越高，否则，你设计的“照片”再精美，印不出来也没有用。
比如，未来博米的智能手机需要用到低于10nm级别的芯片，生产这样的芯片，要用到的最先进的极紫外光刻机。
它的精度要达到什么样的程度呢？首先，如果把光想象成一把刻刀的话，那么光波越短，这把刻刀就越锋利。
1纳米等于百万分之一毫米，7纳米芯片意味着，它的每个元器件之间，只允许有几纳米的间隔距离，相当于一根头发丝粗细的万分之一。
要曝光这样的芯片，必须采用一种特殊的光源，也就是极紫外光，它的波长只有13.5纳米，是可见光波长的几十分之一。
但是，极紫外光源很难制造。
直到今年年初，阿斯麦才研制出了第一台极紫外光刻机。
不过这个进程已经比曹阳前世的要提前太多了。
光刻机的第二个技术难点，是用来调整光路和聚焦的光学镜头。高度精密的光学镜头是光刻机的核心部件之一，所以，排在阿斯麦之后的另外两家光刻机生产商，尼康和佳能，都是生产光学镜头的佼佼者。
阿斯麦自己不生产镜头，它的镜头来自德国的光学大师卡尔蔡司。这种镜头有多精密呢？如果把镜头放大到一个地球那么大，它上面只允许有一根头发丝那样的凸起。所以有人说，这可能是宇宙中最光滑的人造物体。
国内吃亏就吃亏在没有完整的产业链，尤其是光学元件所需要的产业链上面，摄像头，照相机基本上都是来自于国外公司生产，很少能将光学元件打磨到那么精细。
所以这一块还有很长的路要走。
最后一个难点就在于【精准】
芯片不是一次曝光就可以完成的，而是必须更换不同的掩膜，进行多次曝光。
芯片的每个元器件之间只允许有几纳米的间隔。这就意味着，掩膜和硅晶圆每次对准的误差，也必须控制在纳米级别。
曝光完一个区域之后，放置硅晶圆的曝
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